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XPS 测试

原理及特性
 
光电效应与结合能计算

XPS 基于爱因斯坦光电效应,入射 X 射线(如 AlKα,能量 1486.6eV)激发原子内层电子,释放的光电子动能(EK)经检测后,通过能量守恒推导电子结合能(EB),公式如下:

EB=hv−EK−Wsp

其中,hv为 X 射线能量,Wsp为仪器功函数(固定值,由仪器校准)。EB具有元素 “指纹特性”,是元素定性分析的核心依据,例如 C1s 结合能约 284.8eV、O1s 约 532eV。

 

XPS特性
1. 表面敏感性:光电子强度随深度呈指数衰减:
Ⅰ=Ⅰ exp(−d/λ)
其中,d 为样品表面深度,λ为衰减长度,95% 信号来自 3λ 以内(通常 < 9nm),仅反映表层信息。
2. 化学位移:同一元素因化学环境不同(如价态、配位原子),EB发生偏移。例如:
Al 金属(Al⁰)的 Al2p 结合能为 72.6eV,氧化为 Al₂O₃(Al³⁺)后偏移至 74.6eV;
S 元素中,硫化物(S²⁻)S 2p₃/₂约 161.5eV,硫酸盐(S⁶⁺)则高达 169eV。
规律:价态升高(失电子),EB增大;价态降低(得电子),EB减小
 
 
二、什么是XPS谱图?
 
1. 谱峰结构识别
XPS 图谱包含基于理论的光电子峰和依赖物理化学性质的伴峰(如自旋轨道劈裂峰、震激峰等)。同一元素会因激发多个轨道电子出现多组峰,最强光电子峰(主峰)强度最大、峰宽小、对称性好,以 “元素 + 轨道” 标记(如 C1s、Al2p),是定性定量主要依据。
 
2. 关键参数确认
关注峰位置(结合能,表征元素、能级及化学态)、峰强度(与表面元素浓度成正比)、半高宽(FWHM,常规高分辨窄扫图谱 FWHM 为 0.3~1.7eV,拟合建议控制在 0.5eV~2.5eV)。
 
3. 干扰排查
需具备谱峰干扰识别意识,并非所有出峰都来自待测元素,如 Zn 和 In 元素光电子信号可能干扰 Pb、Fe、Ti 的谱峰,可借助 Avantage 软件的谱峰干扰自动识别功能,结合样品与全扫谱图定性判定谱峰归属。
 
 
三、如何分析XPS谱图
 
1. 全谱宽扫定性
通过全谱宽扫覆盖 0-1300eV),快速识别样品中所有元素表面元素组成信息,匹配各元素特征结合能,确定元素种类,为后续窄扫分析奠定基础,例如从全谱中可初步判断是否含 C、O、Mg、Si 等元素。
 
2. 高分辨窄扫化学态分析
针对目标元素的特征轨道(如 C1s、O1s)进行高分辨窄扫,结合化学位移、俄歇参数、伴峰结构等判断元素化学态。需注意:
峰位校准:以表面污染碳(C1s,284.8eV)为基准,修正样品荷电效应(绝缘样品常见);
干扰识别:部分元素峰存在重叠,如 Ru3d 与 C1s 重叠(Ru3d₅/₂约 280.2eV),需结合辅助峰(如 Ru3p)验证。
 
3. 定量计算

定量分析时需确保背底扣除范围与谱峰名称一致,通过谱峰面积积分结合元素灵敏度因子,计算元素相对含量,如某样品中 C 元素相对含量可通过 C1s 各化学态谱峰面积总和占比得出。

 
 
四、如何进行数据拟合?
 
1. 核心原则

拟合适用场景:当谱峰信噪比较差、存在谱峰重叠(规则/不规则谱峰、混合化学态、简单/复杂谱峰干扰)时,需进行数据拟合。

 

关键原则:拟合需结合样品实际情况,避免主观分析;拟合参数能少修改则少修改,在拟合效果良好的前提下模型越简单越好;同批次类似样品(化学环境类似)拟合参数需保持一致或接近。

 
2. 常用方法

分峰拟合用于解析重叠峰或混合化学态,需遵循 “数学合理 + 物理化学意义” 原则,常用 4 种方法如下:

 

(1)单峰拟合

适用场景:单一化学态、谱峰对称且无重叠的情况,如纯 Al 金属的 Al2p 谱峰。

操作步骤:选中对应图谱,通过 Analysis 功能选择合适方法扣除背底(如 Linear、Shirley 法),确定峰范围后,添加单峰并选择 Fit This Level 进行拟合,优化 FWHM、L/G 混合比(高斯-洛伦兹混合比)等参数,确保拟合结果符合样品实际化学意义。

 

(2)双峰拟合

适用场景:存在自旋轨道劈裂的元素(如 p、d 轨道元素)或混合化学态,如 S2p 存在亚硫酸盐(S2p3 约 166.51eV、S2p1 约 167.75eV)与硫酸盐(S2p3 约 168.53eV、S2p1 约 169.75eV)混合时。

操作步骤:先扣除背底并调整加峰位置,选中图谱后通过 Analysis 添加两组双峰,设置峰间距(如 S2p 双峰间距约 1.20±0.1eV)、峰强度比例(如 p 轨道双峰面积比 1:2),固定 FWHM(如 1.14eV、1.34eV)等参数,拟合后勾选目标峰(如 S2p3)进行定量确认。

 

(3)非对称谱峰拟合

适用场景:金属单质、石墨烯等具有不对称拖尾的谱峰,如石墨烯 C1s 谱图因 sp2 杂化存在高结合能端不对称拖尾。

 

操作技巧:引入拖尾函数,由常数尾高和指数尾高组成,公式为

T=TM∗CTH+(1−TM)Exp(−DX∗ET)

其中, TM 为尾混合比、CTH 为常数尾高比、ET 为指数尾比、DX 为离开峰中心的距离。

参考标样调整并锁定拟合参数(如石墨烯 C1s 的 FWHM 为 0.74eV、L/G Mix 为 18.53%、Tail Exponent 为 0.1084),减少分析误差。

 

(4)非线性最小二乘拟合(NLLSF)

适用场景:复杂谱图干扰(如俄歇峰与光电子峰重叠)、混合价态共存情况,如 Ce3d 谱峰受 Fe 俄歇峰干扰时。

 

操作流程:

第一步判断复杂图谱干扰组分(如 Fe LM5、Fe LM6、Fe LM7 俄歇峰干扰 Ce3d);

第二步获取参考谱图(如 Ce3d4+、Fe Auger 参考谱);

 

第三步将参考谱图载入 Avantage 软件(Avantage软件下载 ),选择 Linear 背底扣除方法,设置拟合范围(去除非特征范围)、谱图移动范围(如 Max Shift 2.00eV)及步长精度(如 Step 0.020eV),对参考图谱进行微小平移优化,拟合后勾选目标峰进行定量分析。

 
3. 拟合参数优化要点

半高宽(FWHM):一般控制在 0.5~2.5eV,建议优先控制在 0.5~2.0eV,避免过宽或过窄脱离样品物理化学意义,如 O1s 拟合中 FWHM 为 2.50eV 符合要求,3.25eV 因过宽不满足实际情况。

 

L/G 混合比:默认值可满足多数情况,若放开拟合,高斯分布占比建议控制在 20~50%,确保谱峰形状符合实际;拟合非对称峰时需同步优化 Tail Mix、Tail Height、Tail Exponent 等参数。

 

化学态命名:结合Avantage软件(Avantage软件下载 ) Knowledge View 数据库(包含 C、O、Ru 等元素不同化学态结合能数据)或NIST数据库,匹配标准结合能确定化学态名称,如 C1s 的 C-C、C-O、C=O,O1s 的金属氧化物、金属碳酸盐等。

 
创建时间:2025-10-31 16:40
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